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YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶

磁控溅射靶材标准玉玲 | 纺织行业(FZ)/有色金属(YS) 3 小时前 1 0star收藏 版权： . 保留作者信息 . 禁止商业使用 . 禁止修改作品
部分标准内容：
ICS77.150.99
中华人民共和国有色金属行业标准YS/T719-—2009
平面磁控溅射靶材
光学薄膜用硅靶
Flat magneting sputtering target-Silicon target for optical coating2009-12-04发布
中华人民共和国工业和信息化部发布
2010-06-01实施
本标准由全G有色金属标准化技术w员会提出并归口。本标准负责起草单位：利达光电股份有限公司。本标准主要起草人：李智超、杨太礼、付勇、段玉玲、张向东、赵伦。YS/T7...................
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