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HG/T 4299-2018 代替 HG/T 4299-2012 搪玻璃薄膜蒸发器结构形式和基本参数

蒸发器薄膜4299成膜 | 电子行业(SJ)/化工行业(HG) 2025-08-03 32 0star收藏 版权： . 保留作者信息 . 禁止商业使用 . 禁止修改作品
HG/T 4299-2018.Glass-lined wiped film evaporator-Structure and parameters.HG/T 4299规定了搪玻璃薄膜蒸发器的型式、基本参数及主要尺寸、要求、铭牌、出厂文件、包装、运输和贮存。
HG/T 4299适用于器内设计压力大于-0.1 MPa至0. 25 MPa,夹层内设计压力小于或等于0. 6 MPa,设计温度小于200C，蒸发面积1㎡~15㎡，由刮片强制成膜的降膜式搪玻璃薄膜蒸发器。...................
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