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GB/T 18682-2002 物理气相沉积TiN薄膜技术条件

附录规范性气相技术 | 国家标准(GB)/机械行业(JB) 2026-01-18 65 0star收藏 版权： . 保留作者信息 . 禁止商业使用 . 禁止修改作品
部分标准内容：
ICs 25. 220. 20
中华xxxx国G家标准
GB/T18682—2002
物理气相沉积TiN薄膜技术条件
Specifications of physical yapour deposition TiN films2002-03-10发布
中华xxxx国
国蒙凝量督检验检授总局
2002-08-01实施
规范性引用文件
术语和定义
技术要求
5性能及试验方法
附录A（规范性附录)
附录B(规范性附录)
附录C（规范性附录）
附录(规范性附录）
糖膜前零件表面质量控制技术要求物理气?..................
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