部分标准内容：
中华xxxx国电子行业标准
SJ/T10627--1995
通过测量间隙氧含量的减少表征硅片氧沉淀特性的方法
Test nmethods for oxygen precipitation characterization of siliconwafers by mcasurement of interstitial oxygen reductiort1995-04-22发布
1995-10-01实施
中华xxxx国电子工业部发布中华人民芳和国电子行业标准
通过测量间隙氢含量的减少表
硅片氧沉淀特性的方活
Teni methodg far oxyeen precip...................
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