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部分标准内容:
中华xxxx国G家标准
硅片参考面结晶学取尚X射线
测量方法
Method for measuring crystallographicorientation of flats on single crystal silicon slicesand wafers by X-ray techniques1主题内容与适用范围
本标准规定了用X射线技术测量硅片参考面结晶学取向的方法。GB/T13388-.92
本标准适用于硅片参考面结晶学取向与参考面规定取向之间角度偏差的测量。硅片直径为50125mm,参考面长度为10~50mm。本?..................
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